製造ライン上では、焼成プロファイルが数度程度ずれるだけで、ウェーハの寸法制御が乱れ、フォトレジストが剥がれてしまい、良品のウェーハがスクラップになってしまいます。私たちは、このような現実に対処するために、オゾンフリーの赤外線ランプを開発しました。目的は、熱変動が生じないように、安定した温度を維持することです。
実際に重要なのは、負荷下での再現性です。当社のNIRエミッターは瞬時に所定の温度に到達し、焼成エリア全体でウェーハの温度を±0.1℃以内に保ちます。そのため、ソフトベイクやハードベイクの設定値も、バッチごとに変わることはありません。オゾンフリーの方式により、チャンバー内の汚染が防がれ、粒子数も抑えられます。その結果、クリーンルームのクラス1～100にも適合します。5,000時間以上使用しても、光束や温度の変動は5％未満です。
これにより、ウェーハの寸法管理が容易になり、再加工の回数も減り、メンテナンスのスケジュールも計画しやすくなります。
要するに、稼働時間と歩留まりが重要です。このランプは即座に起動し、所定の温度を維持し、計画外の停止時間が一切ありません。消費電力も従来のシステムより低く、長寿命によりスペア部品やメンテナンスコストも削減されます。リソグラフィーにおいては、これによりフォトレジストのプロファイルが安定し、ラインの停止回数が減り、ウェーハあたりのコストも大幅に削減されます。
導入時の注意点としては、反射板の形状や冷却液の流れに注意する必要があります。これらが熱環境を決定します。既存のオーブンやホットプレートにこのランプを取り付ける場合は、ランプのサイズに合わせてハードウェアを調整する必要があります。また、機器の電圧やコネクタの種類にも合わせて設定し、敏感な検出器が近くにある場合はEMI対策を行う必要があります。キャリブレーションは引き続き行われますが、介入間隔は長くなります。