無駄なエネルギーの消費をやめよう：なぜ金製の反射板が重要か ウェーハ処理において、無駄になる1ワットのエネルギーは、単純にお金の無駄です。さらに悪いことに、その余分な熱がチャンバーの壁面に影響を与え、望ましくない汚染の原因にもなり得ます。 一般的なヒーターは、エネルギーが本来必要な場所以外に漏れ出...

破片の発生を防ぐ：MEMSウエハーを清潔に保つ MEMS工場では、赤外線ランプが故障することは単なる迷惑事ではありません。それはまさに悪夢です。 重負荷がかかった際に石英管が破損すると、単に動作しなくなるだけでなく、実質的に爆発し、微細なガラス片や金属片がウエハーの表面に飛び散ります。そうなれば、...

クラス100のクリーンルームを常に清潔な状態に保つために クラス100のクリーンルームを運用している場合、ウェハを加熱する際に発生するわずかなほこりや気体の塊は、単なる迷惑どころではありません。それは大惨事につながります。一般的な加熱素子では、このような状況に対応できません。加熱に伴って素子が膨張...

装置を加熱するのをやめて、ウェーハを加熱しましょう ウェーハ加熱ステーションを設置する際には、シリコンにエネルギーが直接当たるようにしたいのです。ケースの中にエネルギーが漏れ込むのは避けたいのです。 問題は、一般的な赤外線ランプではエネルギーがあらゆる方向に放出されてしまうことです。狭い半導体製造...

ウェハの硬化処理における電気的安全性について話しましょう。 ウェハを硬化処理する際には、均一に熱が分布することと、電気漏れが一切ないことの2つが不可欠です。これを実現するために、硬化ランプには高反射率のケースが使われ、IRエネルギーを必要な場所に正確に送り込むのです。 しかし、問題点もあります。こ...

方向性赤外線加熱：ウェーハ処理に必要な場所だけを適切に加熱し、オペレーターを傷つけない方法 半導体製造装置における問題点は、単純明快です。それは「不要な熱」の存在です。この不要な熱がエネルギーを奪い、コストを増加させ、装置の外部を危険な状態にしてしまいます。 私たちはこの問題を解決するために赤外線...

リソグラフィーの工程では、フォトレジストを加熱する際に0.5℃の温度変動があるだけで、回路の精度が悪くなってしまうことがあります。また、粒子の混入によって多くのウェーハが破損してしまうこともあります。ウェーハの加熱は、毎回、すべてのロットにおいて、再現性があり、迅速かつ正確に行われなければなりませ...

実際には、はんだマスクの乾燥処理というのは、単なる緩やかな加熱ではありません。それは明確な条件であり、変更の余地がないのです。 1.5℃の温度変動があると、ウエハ全体の厚みが不均一になり、次のリソグラフィ工程が中断されてしまいます。欠陥のない製品を作りたいのであれば、この加熱装置は一定の仕様で動作...

最終洗浄後にウェーハから水分が除去されていく様子を見れば、時間がどれだけ経過しているかがわかります。もし加熱が遅れたり、均一でなかったりすると、すぐに水滴の跡やフォトレジストの剥離、そして歩留まりの低下が起こります。私たちは、このような問題が発生する前にそれを防ぐために、ウェーハ乾燥用の赤外線ヒー...