なぜ私たちがついにUHP赤外線硬化装置を採用するのか？ 正直に言えば、従来の半導体の乾燥・硬化方法はかなり煩雑です。巨大な対流オーブンや有害な化学薬品を使う必要があり、もはや適切な方法とは言えません。そのため、超高純度のUHP赤外線ランプが広く採用されています。なぜでしょうか？それは、よりクリーンで迅速に処理できるからです。また、環境にも優しく、生産ラインの速度を落とすこともありません。
空気を加熱する必要がない 対流オーブンを考えてみてください。ウェハーが熱を感じる前に、オーブンは半分の時間を空気や機械の内壁を加熱するのに費やします。これは無駄なことです。 一方、UHP赤外線ランプは違います。短波放射を利用してエネルギーを直接基板に送り込みます。中間媒体が不要で、無駄なエネルギーも発生しません。 さらに、VOCを放出する溶剤ベースの物質も不要です。そのおかげで、厳しい環境基準を満たすのがずっと簡単になります。
クリーンな環境を維持 クリーンルームでは、わずかなガスの漏れでも大問題になります。そのため、高純度の合成石英管を使用します。これにより、金属的不純物がウェハーに触れることがありません。 最良の点は、速さです。数秒で所定の温度に到達します。ウェハーを長時間高温に置く必要がないため、薄い基板が変形する心配もありません。本当に便利です。
デメリットもある しかし、これが魔法のようなものというわけではありません。このランプは非常に高い熱密度を持っています。これは迅速な硬化には役立ちますが、電源や冷却システムに大きな負担をかけます。 もし冷却システムが十分でなければ、熱が外部に漏れ出し、適切な温度を維持できなくなります。したがって、インフラがその負荷に耐えられるかどうかを確認する必要があります。
切り替える方法 もしまだ古い抵抗式ヒーターを使用している場合、このランプはそのまま交換できます。 これは劇的な違いです。乾燥時間は数分から数秒に短縮されます。機器のサイズも小さくなり、電気代も削減できます。そして、自社の設備と戦うことなく、環境基準を満たすことができます。