Mengurangkan Pelepasan Karbon di Kilang Semikonduktor: Mengapa Kaedah Pengeringan menggunakan IR Berkesan
Mari kita jujur tentang kilang-kilang semikonduktor. Bil utiliti tenaga yang diperlukan sangat tinggi. Salah satu punca utamanya ialah proses pengeringan. Selama ini, kita menggunakan kaedah pengeringan konvensional, tetapi jika kita ingin mencapai sasaran karbon neutral, kaedah tersebut sudah tidak lagi berkesan.
Ini bukan sekadar inisiatif “hijau” untuk memperbaiki imej syarikat. Ini berkaitan dengan angka-angka sebenar – lebih tepat lagi, berapa banyak kilowatt-jam tenaga yang digunakan untuk mengeringkan setiap wafer.
Logik di sebalik penggunaan IR
Kaedah pengeringan menggunakan udara bertekanan sebenarnya sangat membazir tenaga. Kita perlu menggunakan banyak tenaga untuk memanaskan udara di dalam ruang pengeringan, hanya untuk mengeringkan permukaan wafer yang kecil sahaja. Ia sama seperti memanaskan seluruh rumah hanya untuk memanaskan secawan kopi.
Sebaliknya, kaedah pengeringan menggunakan gelombang inframerah jarak dekat (IR) tidak memerlukan pemanasan udara. Tenaga disalurkan terus ke permukaan wafer. Ia merupakan cara pengeringan yang lebih efisien.
Apabila kita menggunakan kaedah ini, masa yang diperlukan untuk mengeringkan wafer dapat dikurangkan sebanyak 40% hingga 60%. Apabila peralatan memerlukan tenaga yang lebih sedikit, jejak karbonnya juga akan berkurangan. Sangat mudah, bukan?
Memastikan persiapan yang betul
Untuk mendapatkan hasil yang diinginkan, kita memerlukan sistem yang memiliki kepadatan tenaga yang sesuai. Sistem tersebut harus mampu mencapai suhu yang ditetapkan dalam masa beberapa saat sahaja. Kelajuan inilah yang membuat kaedah ini efektif – ia membolehkan kita menggunakan tenaga secara pulsa, bukannya secara berterusan.
Namun, kita perlu berhati-hati dengan beban haba yang dihasilkan oleh lampu IR tersebut. Jika kipas penyejuk atau alat penyerap haba tidak mencukupi, suhu di dalam bilik pengeringan akan meningkat.
Saya sentiasa mencadangkan penggunaan kawalan PID yang terintegrasi. Ia dapat memastikan suhu tetap stabil dan mengelakkan wafer daripada terbakar.
Keseimbangan antara kebaikan dan keburukan
Saya tidak akan katakan bahawa kaedah ini adalah penyelesaian ajaib. Ya, kaedah IR lebih cepat, tetapi ia memerlukan ketepatan yang tinggi.
Penyetelan yang tepat sangat penting. Jika lampu IR tidak disusun dengan betul, permukaan wafer akan menjadi sejuk di bahagian tertentu. Anda mungkin perlu meluangkan lebih banyak masa untuk menyesuaikan tetapan awal berbanding menggunakan kaedah pengeringan konvensional.
Namun, apabila segala tetapan telah disesuaikan dengan betul, hasilnya akan sangat memuaskan. Penggunaan tenaga secara keseluruhan akan berkurangan, dan sistem HVAC di kilang juga tidak perlu bekerja keras untuk mengekalkan suhu bilik yang sejuk.