
Di bilik proses pembuatan wafer ini, perbezaan suhu sebanyak beberapa darjah sahaja sudah cukup untuk mengganggu kawalan dimensi wafer tersebut. Ini akan menyebabkan photoresist menjadi tidak efektif, dan wafer yang sepatutnya berkualiti tinggi akan berubah menjadi sampah. Kami mencipta lampu inframerah tanpa ozon agar dapat mengatasi masalah ini, bukannya cuba memperbaikinya setelah ia berlaku. Matlamatnya adalah untuk memastikan suhu yang stabil, supaya wafer dapat diproses dengan lancar tanpa gangguan akibat perubahan suhu.
Apa yang penting ialah kemampuan untuk mendapatkan hasil yang konsisten walaupun di bawah beban tertentu. Lampu NIR kami mampu menyesuaikan suhu dengan cepat, dan memastikan keseragaman suhu pada tahap ±0.1°C di seluruh kawasan pemprosesan wafer. Dengan cara ini, tetapan suhu untuk proses pemanggangan dapat dipertahankan secara konsisten dari satu batch ke batch yang lain. Pendekatan tanpa ozon ini juga membantu mengelakkan pencemaran di dalam bilik pemprosesan, serta mengurangkan jumlah zarah debu – sesuai untuk bilik bersih bertaraf Class 1–100. Prestasi lampu ini kekal konsisten selama lebih dari 5,000 jam, dengan perubahan cahaya dan suhu yang kurang dari 5%.
Ini bermakna kos pengeluaran dapat dikurangkan, kerja-kerja pembetulan dapat dikurangkan, dan masa penyelenggaraan dapat dirancang dengan lebih baik. Semua ini bergantung pada masa operasi dan kadar pengeluaran yang stabil. Lampu ini boleh dihidupkan dengan segera, mengekalkan suhu yang ditetapkan tanpa melampaui had yang ditetapkan, dan boleh beroperasi 24/7 tanpa gangguan. Penggunaan tenaga juga lebih rendah berbanding sistem konvensional. Hayat lampu yang panjang pula membantu mengurangkan kos alat ganti dan tenaga kerja yang diperlukan untuk penyelenggaraan. Dalam bidang litografi, ini bermakna profil photoresist akan lebih stabil, masa henti proses akan berkurangan, dan kos pengeluaran setiap wafer akan menurun.
Beberapa perkara praktikal yang perlu diperhatikan semasa integrasi lampu ini ialah geometri reflektor dan aliran cecair penyejuk – faktor-faktor ini menentukan lingkungan suhu yang dihasilkan. Jika lampu ini digunakan dalam ketuhar atau permukaan pemanas sedia ada, sedikit penyesuaian perlu dilakukan agar lampu dapat berfungsi dengan baik. Pastikan voltan dan jenis sambungan lampu sesuai dengan peralatan yang digunakan. Selain itu, perlindungan terhadap gangguan elektromagnetik juga perlu dilakukan di kawasan di mana sensor sensitif berada. Pemeriksaan kalisasi masih perlu dilakukan, tetapi jarak antara pemeriksaan tersebut boleh diperpanjang.