Mendapatkan Manfaat Maksimum daripada Proses Pencucian dan Pengeringan Wafer
Apabila anda menggunakan stesen pencucian wafer, matlamatnya adalah mudah sahaja: untuk mengeringkan wafer tersebut dengan cepat, tanpa merosakkan permukaan wafer atau membiarkan kotoran tertumpu di permukaannya.
Untuk mencapai ini, kita menggunakan lampu inframerah yang tahan air. Namun, rahsia sebenarnya bukanlah pada lampu itu sendiri, tetapi pada reflektor yang dilapisi emas yang digunakan bersama-sama dengannya.
Reflektor aluminium biasa memang boleh digunakan, tetapi ia menyerap terlalu banyak tenaga. Sebaliknya, emas mampu memantulkan sebahagian besar tenaga inframerah kembali ke arah wafer. Dengan cara ini, haba tidak hilang ke dalam badan lampu, sebaliknya tenaga tersebut disalurkan terus ke wafer.
Mengapa perlu menggunakan emas?
Ia berkaitan dengan penggunaan tenaga yang efisien. Apabila lampu berkuasa tinggi digunakan, haba yang dihasilkan akan tersebar ke segala arah. Reflektor emas pula dapat menangkap haba yang terbuang tersebut dan mengarahkannya semula ke wafer.
Hasilnya, suhu permukaan wafer akan meningkat tanpa perlu menambah kuasa lampu. Ia bukan tentang menambah kuasa, tetapi tentang memastikan kuasa yang ada benar-benar digunakan untuk tujuan yang betul.
Cabaran yang perlu dihadapi
Oleh kerana kita berurusan dengan proses pencucian wafer, kelembapan dan wap kimia wujud di mana-mana. Kita perlu menyegel bahagian hujung komponen tersebut untuk melindungi filamen dan mengelakkan litar pintas.
Namun, kita perlu berhati-hati dengan penggunaan tenaga. Reflektor emas sangat efektif dalam memfokuskan haba, sehingga titik fokusnya menjadi sangat panas. Jika konveyor gagal berfungsi atau wafer berada di bawah lampu terlalu lama, wafer tersebut akan menjadi terlalu panas. Itulah sebabnya kita mencadangkan penggunaan kawalan PID yang tepat. Ini akan membantu menjaga suhu wafer agar tetap stabil.
Kelebihannya
Apabila kaedah ini digunakan, ia sangat efektif. Anda tidak perlu menggunakan banyak lampu untuk mencapai suhu yang diinginkan. Ini bermakna ruang yang diperlukan oleh mesin akan berkurangan, dan panel elektrik juga tidak perlu menanggung beban yang berat.
Proses pengeringan juga akan berjalan lebih cepat, dan suhu permukaan wafer akan menjadi lebih seragam. Ini merupakan cara yang lebih efektif untuk memanfaatkan setiap watt tenaga yang digunakan.