Aanpasbare infraroodverwarmer voor wafer

Thu, 25 Jun 2026 05:09:11 +0800

Op de afdeling voor lithografie leer je al snel dat een temperatuurschommeling van 0,5°C tijdens het verhitten van de fotorezistent kan leiden tot problemen met de precisie van de afbeelding op de wafer. Bovendien kan het voorkomen dat kleine deeltjes veel wafer’s beschadigen. Het verhitten van de wafer’s moet nauwkeurig, snel en consistent plaatsvinden – bij elke cyclus, bij elke lading. Er zijn geen uitzonderingen.

Wat belangrijk is achter de schermen Wij bouwen maatwerk-infraroodverwarmers voor het verwerken van wafer’s. Hierbij worden korte- of middelgolfinstrumenten gebruikt, afhankelijk van de vereisten. In het verhittingsgebied streven we naar een uniformiteit van ±0,1°C, met een reactietijd van minder dan 2 seconden. De warmtepomp bestaat uit kwarts en hoogzuiver keramiek; de verbindingen zijn goed afgesloten om uitstoot en vervuiling te voorkomen.

Drogen van de soldermasker voor de wafer

Tue, 23 Jun 2026 00:48:25 +0800

Bij het drogen van de soldermasker is het niet nodig om de temperatuur langzaam op te voeren. Het gaat hier om een strikte grenswaarde. Een verschil van 1,5°C kan leiden tot ongelijkmatigheden in de dikte van de laag op het geweven oppervlak. Hierdoor kan de volgende lithografische stap niet doorgaan. Als je een productieproces wilt hebben zonder defecten, moet dat thermische apparaat als een constante werken – geen extra variabele die rekening gehouden moet worden.

Wafer on Professional IR Heat Solutions

Aanpasbare infraroodverwarmer voor wafer

Drogen van de soldermasker voor de wafer