<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Masker on Professional IR Heat Solutions</title>
		<link>http://ir-heat-work.com/nl/tags/masker/</link>
		<description>Recent content in Masker on Professional IR Heat Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>nl</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 23 Jun 2026 00:48:25 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-work.com/nl/tags/masker/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Drogen van de soldermasker voor de wafer</title>
				<link>http://ir-heat-work.com/nl/posts/solder-mask-drying-for-wafer/</link>
				<pubDate>Tue, 23 Jun 2026 00:48:25 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-work.com/nl/posts/solder-mask-drying-for-wafer/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-work.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Drogen van de soldermasker voor de wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Bij het drogen van de soldermasker is het niet nodig om de &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;temperatuur&lt;/a&gt; langzaam op te voeren. Het gaat hier om een strikte grenswaarde. Een verschil van 1,5°C kan leiden tot ongelijkmatigheden in de dikte van de laag op het geweven oppervlak. Hierdoor kan de volgende lithografische stap niet doorgaan. Als je een productieproces wilt hebben zonder defecten, moet dat thermische apparaat als een constante werken – geen extra variabele die rekening gehouden moet worden.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
