<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Atomik on Professional IR Heat Solutions</title>
		<link>http://ir-heat-work.com/ms/tags/atomik/</link>
		<description>Recent content in Atomik on Professional IR Heat Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 30 Jun 2026 13:08:31 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-work.com/ms/tags/atomik/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas untuk AFM (Atomic Force Microscope)</title>
				<link>http://ir-heat-work.com/ms/posts/afm-atomic-force-microscope-heater/</link>
				<pubDate>Tue, 30 Jun 2026 13:08:31 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-work.com/ms/posts/afm-atomic-force-microscope-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-work.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Pemanas untuk AFM (Atomic Force Microscope)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Dalam proses litografi, pengimbasan menggunakan AFM tidak akan berjalan dengan baik jika suhu sampel berubah walaupun sebanyak setengah darjah Celsius. Tingkah laku bahan fotoresist—seperti proses pemanasan lembut dan keras—serta kawalan dimensi yang diperlukan semuanya dipengaruhi oleh faktor suhu. Jika pemanas tersebut tidak mampu mengekalkan suhu pada tahap yang tepat, iaitu &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;kurang&lt;/a&gt; dari 0.1°C, maka apa yang dilakukan hanyalah tekaan semata-mata.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dari segi teknikalnya&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Pemanas AFM ini dibina &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;berdasarkan&lt;/a&gt; tiga aspek utama: kestabilan termal, prestasi dalam lingkungan bilik bersih, dan ketekalan hasil penggunaannya. Pemanas ini mampu mengekalkan suhu pada tahap ±0.1°C pada julat suhu 25°C hingga 300°C, dengan ketepatan yang boleh diukur berbanding dengan standard rujukan yang telah dikalibrasi. Bahan yang digunakan adalah kuarsa &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;berkualiti&lt;/a&gt; tinggi serta komponen gelombang pendek NIR untuk mengurangkan pelepasan gas dan pembentukan zarah-zarah halus. Permukaan pemanas juga direka khusus untuk operasi dalam bilik bersih kelas 1–100, agar jumlah zarah halus tetap rendah dan risiko pencemaran dapat diminimumkan. Kawalan suhu dilakukan melalui sistem PID yang stabil, agar proses pemanasan fotoresist berlangsung dalam julat yang ditetapkan tanpa menyebabkan penyimpangan suhu.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
