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		<title>Wafer on Professional IR Heat Solutions</title>
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		<description>Recent content in Wafer on Professional IR Heat Solutions</description>
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			<lastBuildDate>Thu, 25 Jun 2026 05:09:11 +0800</lastBuildDate>
		
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				<title>Riscaldatore a infrarossi personalizzato per wafer</title>
				<link>http://ir-heat-work.com/it/posts/custom-infrared-heater-for-wafer/</link>
				<pubDate>Thu, 25 Jun 2026 05:09:11 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-work.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Riscaldatore a infrarossi personalizzato per wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Nel settore della litografia, si impara rapidamente che anche un cambiamento di temperatura di soli 0,5°C durante la fase di riscaldamento del fotoresisto può causare problemi nella qualità dei prodotti finiti. Inoltre, la presenza di particelle indesiderate può danneggiare un gran numero di wafer. Il riscaldamento dei wafer deve essere preciso, rapido e uniforme, ad ogni ciclo, ad ogni lotto prodotto. Non ci sono eccezioni.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Ciò che è importante nel funzionamento del sistema&lt;/strong&gt;&#xA;Produciamo termocircuiti infrarossi su misura per il trattamento dei wafer, abbinando emettitori a onde corte o medie in base alle esigenze termiche specifiche del processo. Nella zona di riscaldamento, miriamo a ottenere una uniformità della temperatura di ±0,1°C, con tempi di risposta inferiori a 2 secondi. Il corpo del termocircuito è realizzato in quarzo e ceramica ad alta purezza; i collegamenti tra le varie parti sono sigillati per evitare perdite di gas e contaminazioni.&lt;/p&gt;</description>
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				<title>Asciugatura della maschera di saldatura per wafer</title>
				<link>http://ir-heat-work.com/it/posts/solder-mask-drying-for-wafer/</link>
				<pubDate>Tue, 23 Jun 2026 00:48:25 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-work.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Asciugatura della maschera di saldatura per wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Nella fase di essiccazione della maschera di saldatura, non si tratta affatto di un processo di riscaldamento graduale. Si tratta semplicemente di una condizione critica da rispettare. Un cambiamento di temperatura di 1,5°C può causare variazioni nella spessore del film presente sul wafer; di conseguenza, il ciclo di litografia successivo viene interrotto. Se si vuole ottenere prodotti senza difetti, questo strumento termico deve funzionare in modo costante, senza diventare un ulteriore fattore che influisce negativamente sul processo.&lt;/p&gt;</description>
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				<title>Riscaldatore a infrarossi per essiccazione di wafer</title>
				<link>http://ir-heat-work.com/it/posts/wafer-drying-infrared-heater/</link>
				<pubDate>Wed, 17 Jun 2026 16:22:03 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-work.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Riscaldatore a infrarossi per essiccazione di wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Basta osservare come la wafer venga estratta dopo l’ultimo ciclo di lavaggio per capire che il tempo sta per scadere. Se il calore viene applicato in modo ritardato o in modo non uniforme, si verificheranno rapidamente segni legati all’acqua, danni al fotoresist e una riduzione della qualità del prodotto. Abbiamo progettato dei riscaldatori a onde infrarosse per evitare che questa serie di problemi si verifichi.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Cosa è importante nel funzionamento dei riscaldatori&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Utilizziamo emissori a onde infrarosse a breve lunghezza d’onda, montati all’interno di un sistema in quarzo compattato. Si &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;tratta&lt;/a&gt; di un sistema di trasferimento energetico diretto, con bassa massa termica; quindi si ottiene una risposta rapida e un controllo preciso. Durante il processo di essiccazione, manteniamo un’umidità costante nei limiti di ±0,1°C su tutta la superficie della wafer.&lt;/p&gt;</description>
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