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		<title>Maschera on Professional IR Heat Solutions</title>
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		<description>Recent content in Maschera on Professional IR Heat Solutions</description>
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				<title>Asciugatura della maschera di saldatura per wafer</title>
				<link>http://ir-heat-work.com/it/posts/solder-mask-drying-for-wafer/</link>
				<pubDate>Tue, 23 Jun 2026 00:48:25 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-work.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Asciugatura della maschera di saldatura per wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Nella fase di essiccazione della maschera di saldatura, non si tratta affatto di un processo di riscaldamento graduale. Si tratta semplicemente di una condizione critica da rispettare. Un cambiamento di temperatura di 1,5°C può causare variazioni nella spessore del film presente sul wafer; di conseguenza, il ciclo di litografia successivo viene interrotto. Se si vuole ottenere prodotti senza difetti, questo strumento termico deve funzionare in modo costante, senza diventare un ulteriore fattore che influisce negativamente sul processo.&lt;/p&gt;</description>
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