Pengeringan on Professional IR Heat Solutions

Audit energi untuk proses pengeringan di pabrik

Sun, 19 Jul 2026 16:22:00 +0800

Mengurangi Emisi Karbon di Pabrik Semikonduktor: Mengapa Pengeringan dengan Gelombang Infra Merah Efektif
Sejujurnya, biaya energi yang dikeluarkan oleh pabrik semikonduktor sangatlah tinggi. Salah satu penyebab utamanya adalah proses pengeringan. Selama ini, kita menggunakan oven konvensional untuk proses pengeringan, tetapi jika kita ingin mencapai target netral karbon, metode tersebut sudah tidak cukup lagi.

Ini bukan sekadar inisiatif “hijau” yang dibuat hanya untuk membuat brosur terlihat lebih menarik. Yang penting adalah angka-angkanya—yaitu berapa banyak kilowatt-jam energi yang digunakan untuk mengeringkan setiap wafer.

Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS

Sat, 18 Jul 2026 04:33:34 +0800

Mencegah Serpihan yang Terbentuk: Memastikan Wafer MEMS Tetap Bersih
Di pabrik MEMS, kegagalan lampu inframerah bukanlah masalah sepele. Hal ini bisa menjadi bencana yang serius. Bayangkan saja, tabung kuarsa yang rusak akibat beban berlebih. Tabung tersebut tidak hanya berhenti berfungsi, tetapi juga meledak, sehingga serpihan kaca dan potongan logam beterbangan ke permukaan wafer. Akibatnya, kualitas wafer pun menurun drastis. Kami merancang pemanas inframerah yang berkualitas tinggi agar hal tersebut tidak terjadi.

Mengapa Tabung Kuarsa Bisa Meledak
Umumnya, hal ini disebabkan oleh tekanan termal atau arus listrik yang berlebih di bagian sambungan tabung. Ketika produksi dilakukan secara intensif, tabung-tabung ini akan mengalami tekanan yang sangat besar. Untuk mengatasi hal ini, kami menggunakan kuarsa sintetis berkualitas tinggi. Kuarsa jenis ini memiliki koefisien ekspansi termal yang sangat rendah, sehingga mampu bertahan dari fluktuasi suhu yang ekstrem tanpa rusak.

Pengeringan lapisan pelindung solder pada wafer

Tue, 23 Jun 2026 00:48:26 +0800

Dalam proses pengeringan lapisan solder mask, proses ini bukanlah proses pemanasan yang lembut. Ini merupakan kondisi batas yang harus dipatuhi, sama sekali tidak boleh diabaikan.

Perubahan suhu sebesar 1,5°C saja sudah cukup untuk menyebabkan perbedaan ketebalan lapisan pada wafer. Hal ini akan menghentikan proses litografi berikutnya. Jika Anda ingin mendapatkan produk tanpa cacat, maka alat pemanas tersebut harus berfungsi secara konsisten, bukan sebagai variabel yang perlu diperhatikan secara terus-menerus.

Yang penting dalam proses ini Sistem ini dirancang menggunakan gelombang inframerah pendek dengan emitor kuarsa-halogen, sehingga energi dapat disalurkan dengan cepat dan tetap berada di permukaan wafer.