Regardez une wafer en train de sortir de la dernière étape de rinçage : vous savez alors que le temps presse. Si la chaleur n’est pas appliquée à temps ou de manière uniforme, des marques d’eau apparaîtront sur la surface de la wafer, ainsi que des problèmes liés au photo-résistant. Nous avons conçu des chauffages infrarouges pour éviter cette série de problèmes avant même qu’ils ne surviennent.
Ce qui est important en termes de fonctionnement Nous utilisons des émetteurs infrarouges à ondes courtes, intégrés dans un ensemble en quartz compact. Cela permet une transmission directe d’énergie, avec une faible masse thermique, ce qui assure une réponse rapide et un contrôle précis. Sous l’effet du flux d’air pendant le processus de séchage, nous parvenons à maintenir une température constante sur toute la surface de la wafer, avec une tolérance de ±0,1°C.
Le contrôle se fait grâce à un capteur calibré, et non en fonction de la température des parois de la chambre. C’est ainsi que la répétabilité reste constante d’un lot à l’autre. Le système de chauffage est compatible avec les environnements propres, classe 1–100, et ses surfaces sont conçues pour minimiser la génération de particules et les émissions gazeuses. La puissance de chauffage reste stable pendant plus de 5 000 heures, avec moins de 5% de variation de intensité en conditions stables.
Pourquoi cela fonctionne bien en lithographie et dans le traitement du photo-résistant Le budget thermique en lithographie et dans le traitement du photo-résistant est très limité. Les profils de séchage doivent être respectés à la lettre, afin de maintenir la densité des défauts et les caractéristiques de la surface de la wafer à leurs valeurs souhaitées. Nos chauffages infrarouges permettent de sécher rapidement les wafers, sans excès de chaleur, ce qui permet de préserver l’intégrité du photo-résistant et de maintenir un contrôle précis de la largeur des lignes.
Vous obtenez ainsi une vitesse de séchage élevée, sans compromettre la uniformité. De plus, l’utilisation d’énergie diminue, car la chaleur est dirigée exactement là où elle est nécessaire. Les résultats sont une diminution du nombre de défauts, une performance prévisible lors du séchage, et moins de nécessités de retraitement.
Quelques détails importants concernant l’installation L’installation nécessite des tolérances de montage adaptées, ainsi qu’une gestion correcte du flux d’air. Pour atteindre cette uniformité de ±0,1°C, il est essentiel d’avoir un flux d’air laminar et de limiter les courants d’air latéraux dans la zone de séchage. Le chauffage s’intègre facilement aux outils de semi-conducteurs standards, mais son installation nécessite néanmoins une vérification des distances entre les composants, de la charge thermique et de l’emplacement des capteurs.
La durée de vie du système est longue, mais il est quand même nécessaire de maintenir le capteur de température en état de calibration régulièrement. C’est ce qui permet de maintenir l’uniformité désirée au fil du temps.