<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>AFM on Professional IR Heat Solutions</title>
		<link>http://ir-heat-work.com/cs/tags/afm/</link>
		<description>Recent content in AFM on Professional IR Heat Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>cs</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 30 Jun 2026 13:08:31 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-work.com/cs/tags/afm/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Ohřívač AFM (mikroskop s atomovou silou)</title>
				<link>http://ir-heat-work.com/cs/posts/afm-atomic-force-microscope-heater/</link>
				<pubDate>Tue, 30 Jun 2026 13:08:31 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-work.com/cs/posts/afm-atomic-force-microscope-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-work.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Ohřívač AFM (mikroskop s atomovou silou)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;V &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;prost&lt;/a&gt;ředí určeném k litografii je skenování pomocí AFM zcela bezúčelné, pokud teplota vzorku kolísá byť jen o půl stupně. Chování fotorezistoru – proces měkkého a tvrdého zahřívání a následná kontrola rozměrů – je všechno pod vlivem tepla. Pokud váš ohřívač nedokáže udržet požadovanou teplotu s přesností pod 0,1 °C, tak ve skutečnosti nic nezměřujete – jen odhadujete.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Co je z &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;technick&lt;/a&gt;ého hlediska důležité&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Tyto ohřívače pro AFM jsou navrženy s ohledem na tři hlavní aspekty: tepelnou stabilitu, chování v čistých prostorách a opakovatelnost výsledků. Zařízení dosahuje rozsahu přesnosti ±0,1 °C v rozmezí teplot od 25 °C do 300 °C, a to s možností ověření proti kalibrovanému referenčnímu standardu. Konstrukce využívá &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;vysoce&lt;/a&gt; čistý křemík a elementy krátkovlnného infračerveného záření, aby se minimalizovalo uvolňování plynů a vznik částic. povrchové úpravy a uzávěry jsou navrženy tak, aby umožnily provoz v čistých prostorách třídy 1–100 – díky tomu zůstává počet částic nízký a nedochází ke kontaminaci. Řízení probíhá v uzavřeném obvodu s stabilním PID profillem, takže se sekvence zahřívání fotorezistoru drží v rozmezí procesních parametrů bez nadměrných výkyvů.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
