सोल्डर मास्क को सुखाने की प्रक्रिया में कोई हल्का-फुल्का तापन नहीं होता; यह तो एक निश्चित सीमा-शर्त है।
1.5°C का अंतर भी वेफर की मोटाई पर प्रभाव डालता है, जिससे अगली लिथोग्राफी प्रक्रिया रुक जाती है। यदि आप बिना किसी दोष के उत्पादन चाहते हैं, तो इस थर्मल उपकरण को एक स्थिर उपकरण के रूप में ही काम करना होगा… न कि कोई ऐसा उपकरण जिसका मान लगातार बदलता रहे।
वास्तव में क्या महत्वपूर्ण है?
हमने इस सिस्टम को छोटी-तरंगदैर्घ्य वाले इन्फ्रारेड तरंगों के उपयोग से विकसित किया है… ताकि ऊर्जा तेजी से वेफर की सतह पर पहुँच सके।
वेफर पर ±0.1°C की समानता ही महत्वपूर्ण है… ऐसी समानता ही सोल्डर मास्क सुखाने की प्रक्रिया में आवश्यक है। क्लोज्ड-लूप नियंत्रण प्रणाली, वेफर की सतह के तापमान को सीधे ही मापती है… न कि चेंबर की हवा के आधार पर। इससे आपको वास्तव में जो चाहिए, वही प्राप्त होता है।
क्लीनरूम के मानक क्या हैं?
क्लीनरूम के मानक क्लास 1–100 हैं… ऐसी सामग्रियों का उपयोग किया जाता है जिनसे कम गैसें निकलती हैं… एवं ऐसी व्यवस्था होती है जिससे कणों का निर्माण न हो। दोहरावी प्रक्रियाओं में तापमान, समय एवं गति नियंत्रित रहती है… इससे हर बैच में समान परिणाम प्राप्त होते हैं।
व्यवहार में यह सिस्टम क्यों कारगर है?
यह सिस्टम, कोटिंग के तुरंत बाद सोल्डर मास्क को सुखाने हेतु ही विकसित किया गया है… ताकि नमी एवं विलायकों के अवशेष दूर हो जाएँ… बिना फिल्म पर कोई दबाव पड़े।
तेज तापन से समय कम हो जाता है… जिससे अगली प्रक्रिया शुरू होने से पहले कोई समस्या नहीं होती। जब तापन प्रक्रिया नियंत्रित रहती है, तो दोषों की संख्या कम हो जाती है… जिससे उत्पादन में सुधार होता है।
ऊर्जा की खपत भी कम हो जाती है… क्योंकि ऊर्जा केवल आवश्यकता के अनुसार ही दी जाती है… न कि चेंबर में लगातार ऊष्मा दी जाती है। इससे अपशिष्ट उत्पादों की संख्या कम हो जाती है… एवं प्रक्रिया में भी सुधार होता है।
क्या योजना बनानी आवश्यक है?
इस सिस्टम हेतु क्लीनरूम में उचित बिजली एवं ग्राउंडिंग व्यवस्था आवश्यक है… एवं बेकिंग प्रक्रिया भी सोल्डर मास्क की विशेषताओं के अनुसार ही होनी चाहिए।
सिस्टम को सेट करने में थोड़ा समय लगता है… लेकिन एक बार सेट हो जाने के बाद, प्रक्रिया नियंत्रण में ही रहती है।
लेकिन जब सोल्डर मास्क बदला जाता है, तो प्रक्रिया को पुनः सत्यापित करना ही आवश्यक है… यही नियमितता हेतु आवश्यक है।